项目编号:G2123

G2123高精度纳米压印设备的研发

发布时间:2021-12-21

项目介绍

纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术,通过类似传统印章复印的方法在硅或其他衬底上加工出纳米级的微结构。但是国内纳米压印光刻技术起步较晚,高精度国产设备供应一片空白,而国际设备商能支持和应对服务地只有极少数几家企业,因此迫切需要国产纳米压印的技术出现突破,才能解决国内部分高科技厂商的发展问题。

该项目以纳米压印光刻技术的研发为牵引,从材料、工艺、设备三个维度同时推进,开发一整套用于纳米压印光刻技术的原材料,模板和辅材,以及与之对应的母模板刻蚀工艺、对准工艺、微射流上胶工艺、纳米压印辅助工艺。最终将其应用到纳米压印光刻样机中实现相关产品的生产,包括:AR纳米光学镜片、50 /100 纳米的铝线栅起偏器等。

目前,纳米压印光刻技术已在AR/VR、微纳光学组件、高性能显示器、纳米传感器等领域有了较为广泛的应用。通过纳米压印光刻技术,人们将工业加工能力拓展到了介观尺度,生产了一系列高科技产品,包括:AR光学镜片、第三代纳米线LED显示器、纳米生物传感器等。